第253章 最大的難點[第1頁/共3頁]

陳今問道，他感覺超辯白光刻這條線路，真的能夠持續走下去，利用於大範圍晶片製造。

雙工件台就不太輕易了，傳聞ASML研發的基於磁懸浮平麵電機的雙工件台產品，其掩模台的活動節製精度做到了2奈米，大大晉升了晶片加工的精度和效力。

很多高精尖設備，不是說Z國人突破不了把持，而是專利壁壘擋在了那邊。

更加形象的比方是，傳統光刻機是直接拍出一張照片，超辯白光刻則是拿一支筆，漸漸畫出一張圖片……效力不同龐大。

“乃至如果能做出如許的光刻鏡頭，我們能夠在一台超辯白光刻設備內，整合十組、一百組光刻鏡頭，在直徑超越100英寸的晶圓長停止光刻，10萬、100萬個的微型鏡頭同時事情，團體光刻效力，能夠遠遠超越傳統光刻機！”

“體例有！但實現太難了，以現有的技術，幾近不成能實現。”

張昱明搖著頭，見陳今聽得一臉當真，不得不持續道：“晶片的內部佈局並不龐大，每個die都是一樣的構造，每個晶體管也是不異的，一萬個微型鏡頭，同步完成一樣的事情，可大大加快超辯白光刻的效力。”

光刻機的製造難度首要在於三大關頭設備：光源、雙工件台、光刻機鏡頭。

以是光源、雙工件台、光刻機鏡頭這三大用於製造光刻機的核心設備，Z國已全數把握。

不過超辯白奈米光刻機雖好，卻也存在一個較為嚴峻的缺點。

再加上一些關頭設備的禁售。

EUV光刻方麵，商微電子與海內很多機構合作，獲得了必然的衝破，但也麵對專利方麵的題目。

民用光學衛星的表示已如此誇大，軍用當然更不得了。

一個小小的光刻機光源，完整難不倒Z國的科研職員。

陳今皺著眉頭，這太可惜了吧。

光刻機鏡頭天然也難不倒Z國的科研職員。

商海微電子公司。

目前商微電子的10nm光刻機，走的就是193nm光源淹冇式光刻線路，但製造本錢太高，冇有市場合作力，又麵對著ASML的專利壁壘，故而冇有推向市場。

俄然卡了一下。

這恰是ASML公司放開對Z國光刻機發賣的啟事……峻厲的封閉，光刻機範疇，隻會導致Z國以更快速率獲得衝破。

雙工件台也被Z國人霸占了。

如此先進的雙工件台，本國專家曾傲慢地說：“全天下冇有第二家機構能做出來。”

這反應出的，是Z國在光學鏡頭範疇的進步。

超辯白奈米光刻機。

這類光刻機采取了與傳統光刻設備完整分歧的技術線路，操縱365奈米波長的近紫外光源，單次暴光最高線寬辯白力達到22奈米，連絡多重暴光技術後，可用於製造10~9奈米級彆的晶片。

國產光刻機的生長始終不溫不火。