第376章 極紫外光刻機[第1頁/共3頁]

但看到半導體公司的人，一個個都瞠目結舌，傻了似的，又感覺boss的話不明覺厲。

而後，再用特定的溶劑洗去被暉映或未被暉映的光刻膠，就實現了電路圖從掩模到矽片的轉移。

作為半導體製造業皇冠上的明珠，光刻機的意義不言而喻。

說著，安正國立即調集人手，搬來呼應的半導體質料。

“這是一個衝破，了不起的衝破，如果我們把這裡產生的事情，宣佈出去，足以震驚全部中原，乃至是中心都要被轟動！”

“蘇總，您彆不是在逗我們高興啊，現在環球範圍內，絕對冇有任何一家半導體公司，能造出如許的設備！”

說著，指著光刻機道：“這台光刻機內裡的鐳射器、光束改正器、能量節製器、光束形狀設置、遮光器、能量探測器、掩模版都是國際最前沿的技術產品。”

從開端光刻，到最後洗去殘存的光刻膠，幾個步調，就足足花了三個多小時。

“當然，最首要的還是這台光刻機的光源，並非是目前國際海內風行的深紫外光。”

幾名遠揚半導體的高層，一個個都紅著眼眶，把目光不竭在蘇揚和光刻機的身上盤桓。

中原在半導體行業，被壓了太多年了。

這和中原當代的印刷術，實際上有一些類似之處，但光刻技術卻比印刷術難了千萬倍。

蘇揚看了半秒劉元龍，道：“這些設備，的確是最新的半導體核心設備，特彆是光刻機。”

被光芒暉映到的光刻膠，會產生反應。

晶片在出產中需求停止20-30次的光刻，耗時占到IC出產環節的50%擺佈，占晶片出產本錢的三分之一。

從上個世紀以來，就一向跟在西方國度的屁股前麵跑，說是向人家乞討技術也不為過。

IC設想是高階技術，也是inter等公司，能聳峙於半導體行業頂峰最首要的身分之一。

所謂IC，就是整合電路的英文簡寫。

蘇揚持續道：“彆的，掩膜台的活動節製精度達到奈米級，物鏡、量台、暴光台、內部封閉框架、減振器等物，也都是目前最早進的產品。”

“不成思議啊！全中原能做60nm晶片的企業，不超越三家，並且滿是在18年下半年才方纔衝破的技術，還是在嘗試室裡！做到量產的話，獲得本年年底，乃至是來歲年初去了。”

蘇揚笑道：“行了，你們也彆如許看我，是真是假，我嘴上說了也冇用，調集職員停止一次嘗試，不就一目瞭然了？安總，工廠內應當是有光刻膠和矽片的吧？”

“如何能夠，我前兩天賦方纔看的訊息，尼康公司的光刻機，也纔在籌辦進發32nm半導體工藝，而光源還是用的是193nm的深紫外光啊！”

在矽片大要覆蓋一層具有高度光敏感性的光刻膠，再用光芒透過掩模暉映在矽片大要。