第二五三章 PECVD設備[第1頁/共4頁]

這個大師夥首要有五個事情室構成的，這五個事情室中有兩個是工藝室，是專門用於給玻璃基板停止鍍膜反應的反應腔，另有一個是裝載腔，是用來裝載玻璃基板的；一個傳送腔，是用來把裝載腔的玻璃基板傳送到工藝室中停止鍍膜反應的；最後一個就是卸載腔，服從就是將反應完成的玻璃基板卸載出設備的。

畢竟這玩意兒的首要感化是用來停止離子反應的，而不是和內存出產線中的內存顆粒觸點措置機那麼要求事情精度的，是以這套設備的加工工藝並不難。

恰是因為如此，李想纔可貴的發了一次善心，籌算直接將pecvd設備賣給小曰本。畢竟以小曰本的氣力而言，遲早也會發明其他兩種cvd技術的不敷之處，從而開端用心研討pecvd技術。這是遲早的事情，不過再晚，小曰本也會走到宿世的門路上去的。

鞠躬感激（稻草人）大大100的打賞。

當然在目前，除了李想曉得這個事情以外，其他的人還並不曉得這類事情，是以包含曰本人在內，都以為這三種cvd技術是必不成少的。不過，此次李想倒是發了善心，畢竟小曰本此次很風雅，不但同意了本來打算中的2代線，並且還附帶了一條玻璃基板出產線，同時小曰本還同意從將來實業采購cvd設備。最關頭的是，據李想所知，小曰本在獲得了那三套cvd技術以後，立即就開端構造相乾職員停止技術攻關，試圖本身來製造cvd設備，隻不太小曰本彷彿並不曉得pecvd纔是最關頭的設備，是以他們是三種設備一起研發，導致了團體研發過程的遲緩。

咱三種設備都有，並且給你們保舉的是pecvd設備，你們非要自個兒全都買，等你們發明其他兩種cvd設備不是很合用以後，那可就彆怪哥們了。誰讓你們不聽哥們的保舉呢！

除了這些首要的腔室以外，這個大師夥還整合了供氣體係、排氣體係、除害體係、水循環體係以及一些附件。總得來講，是一套比較龐大的設備。但這套設備對於加工精度的要求並不是那麼高，比起前段時候一機床給宏達電子加工的那台內存顆粒觸點措置機來，這套pecvd設備的加工精度要差的遠了。

這兩天在忙活公司停業執照年審，以是更新能夠有點不普通，還請諒解。

實際上，在宿世tft-lcd液晶麵板出產線中利用的cvd技術和設備最多的是pecvd，也就是等離子加強化學氣相堆積法，因為不管是常壓化學氣相堆積法，還是高壓化學氣相堆積法，在實際利用中的用處都不是很大，這主如果因為後代的tft-lcd液晶麵板所用的玻璃基板多數是堿性玻璃的原因，因為不管是常壓化學氣相堆積法還是高壓化學氣相堆積法，在鍍膜的時候都分歧用於堿性玻璃，雖說在前幾代線的時候還能用得上，但跟動技術的不竭生長，這兩種cvd技術的範圍性就凸顯了出來，畢竟這兩種技術隻能伶仃的針對某一個鍍層，是以在後幾代線中，這兩種cvd技術和設備根基上就用不到了