第二五三章 PECVD設備[第2頁/共4頁]

這兩天在忙活公司停業執照年審，以是更新能夠有點不普通，還請諒解。

除了這些首要的腔室以外，這個大師夥還整合了供氣體係、排氣體係、除害體係、水循環體係以及一些附件。總得來講，是一套比較龐大的設備。但這套設備對於加工精度的要求並不是那麼高，比起前段時候一機床給宏達電子加工的那台內存顆粒觸點措置機來，這套pecvd設備的加工精度要差的遠了。

當然在目前，除了李想曉得這個事情以外，其他的人還並不曉得這類事情，是以包含曰本人在內，都以為這三種cvd技術是必不成少的。不過，此次李想倒是發了善心，畢竟小曰本此次很風雅，不但同意了本來打算中的2代線，並且還附帶了一條玻璃基板出產線，同時小曰本還同意從將來實業采購cvd設備。最關頭的是，據李想所知，小曰本在獲得了那三套cvd技術以後，立即就開端構造相乾職員停止技術攻關，試圖本身來製造cvd設備，隻不太小曰本彷彿並不曉得pecvd纔是最關頭的設備，是以他們是三種設備一起研發，導致了團體研發過程的遲緩。

比擬於pecvd設備，彆的兩種cvd設備無疑要簡樸了一些，是以隻要能夠製造出合格的pecvd設備來，那麼彆的兩種設備天然是手到擒來的事情。以是，李想和宏達電子機修部的主任劉誌此次來到一機床，拿的就是pecvd設備的圖紙。

對於這一點，李想是毫不思疑的，因為宿世和劉軍談天的時候，劉軍曾經給他講過這方麵的事情。當時即便是利用於tft-lcd工藝製程中的cvd設備的研發者――akt公司，也是顛末端好長時候的嘗試以後，才完整掌控了這套技術，並把握了此中的關頭訣竅。現在換成曰本的那些液晶麵板出產商，他們的技術恐怕還不如akt公司的技術職員呢！

至於最首要的工藝室，內裡的設想就更龐大了。一個工藝腔是由十個反應室和十個冷卻箱構成的，各自之間通過搭鈕相互連接，詳細的佈局就是一層冷卻箱一層反應室然後再一層冷卻箱，如答應以包管充分的冷卻。反應室的門是由彈簧和鋁金屬板構成的，通過彈簧將鋁金屬板壓在腔上，保持封閉狀況，以減少工藝腔的泄漏率。

技術是技術，要把技術轉化成為真正的產品，並不是那麼輕易就能做到的。

實際上，在宿世tft-lcd液晶麵板出產線中利用的cvd技術和設備最多的是pecvd，也就是等離子加強化學氣相堆積法，因為不管是常壓化學氣相堆積法，還是高壓化學氣相堆積法，在實際利用中的用處都不是很大，這主如果因為後代的tft-lcd液晶麵板所用的玻璃基板多數是堿性玻璃的原因，因為不管是常壓化學氣相堆積法還是高壓化學氣相堆積法，在鍍膜的時候都分歧用於堿性玻璃，雖說在前幾代線的時候還能用得上，但跟動技術的不竭生長，這兩種cvd技術的範圍性就凸顯了出來，畢竟這兩種技術隻能伶仃的針對某一個鍍層，是以在後幾代線中，這兩種cvd技術和設備根基上就用不到了